Die elektronstraalverdampingsmetode is 'n soort vakuumverdampingsbedekking, wat elektronstrale gebruik om die verdampingsmateriaal direk onder vakuumtoestande te verhit, die verdampingsmateriaal te verdamp en na die substraat te vervoer en op die substraat te kondenseer om 'n dun film te vorm.In die elektronstraalverhittingstoestel word die verhitte stof in 'n waterverkoelde smeltkroes geplaas, wat die reaksie tussen die verdampingsmateriaal en die smeltkroeswand kan vermy en die kwaliteit van die film kan beïnvloed.Veelvuldige smeltkroeë kan in die toestel geplaas word om gelyktydige of afsonderlike verdamping en afsetting van verskeie stowwe te bewerkstellig.Met elektronstraalverdamping kan enige materiaal verdamp word.
Elektronstraal verdamping kan hoë-smeltpunt materiaal verdamp.In vergelyking met algemene weerstandsverhittingsverdamping, het dit hoër termiese doeltreffendheid, hoër straalstroomdigtheid en vinniger verdampingsspoed.Film en film van verskeie optiese materiale soos geleidende glas.
Die kenmerk van elektronstraalverdamping is dat dit nie of selde die twee kante van die teiken driedimensionele struktuur sal bedek nie, en gewoonlik net op die teikenoppervlak neerslaan.Dit is die verskil tussen elektronstraalverdamping en sputtering.
Elektronstraalverdamping word algemeen gebruik in die veld van halfgeleiernavorsing en -industrie.Die versnelde elektronenergie word gebruik om die materiaalteiken te tref, wat veroorsaak dat die materiaalteiken verdamp en styg.Uiteindelik op die teiken gedeponeer.
Postyd: Des-02-2022