Fisiese dampafsettingstegnologie (Fisiese Dampafsetting, PVD) verwys na die gebruik van fisiese metodes onder vakuumtoestande om die oppervlak van 'n materiaalbron (vaste stof of vloeistof) in gasvormige atome of molekules te verdamp, of gedeeltelik in ione te ioniseer, en deur laedrukgas (of plasma) te beweeg. Die proses, 'n tegnologie vir die afsetting van 'n dun film met 'n spesiale funksie op die oppervlak van 'n substraat, en fisiese dampafsetting is een van die belangrikste oppervlakbehandelingstegnologieë. PVD (fisiese dampafsetting) bedekkingstegnologie word hoofsaaklik in drie kategorieë verdeel: vakuumverdampingsbedekking, vakuumsputterbedekking en vakuumioonbedekking.
Ons produkte word hoofsaaklik gebruik in termiese verdamping en verstuiwingsbedekkings. Die produkte wat in dampafsetting gebruik word, sluit in wolframdraad, wolframbote, molibdeenbote en tantaalbote. Die produkte wat in elektronstraalbedekking gebruik word, is katodewolframdraad, koperkroesie, wolframkroesie en molibdeenverwerkingsonderdele. Die produkte wat in verstuiwingsbedekkings gebruik word, sluit in titaniumteikens, chroomteikens en titanium-aluminiumteikens.
